Восстанавливающий крем для лица BioNike Aknet Hydra Plus Restorative Care для себорейной и склонной к акне кожи, 40 мл

Подарите коже увлажненность и комфорт — с кремом HydraPlus Restorative Care. Он разработан специально для сухой, хрупкой, склонной к акне и себореи коже. Крем устраняет дискомфорт и способствует уменьшению несовершенств. Это замечательный выбор для ухода за кожей после фармакологических процедур.

Преимущества продукта

• Уменьшение раздражений, сухости и стянутости.
• Питание, увлажнение и регенерация кожи.

Косметика серии Aknet протестирована на некомедогенность и рекомендована дерматологами. Продукты бренда BioNike не содержат глютена, консервантов и ароматизаторов. Средства безопасны для чувствительной, реактивной и склонной к аллергии кожи.

Как действует?

Гиалуроновая кислота с четырьмя видами молекулярной массы и медленно высвобождаемый серин обеспечивают пролонгированное и интенсивное увлажнение. Церамиды, vitamin E, аллантоин поддерживают естественные механизмы регенерации кожного барьера и восстанавливают гидролипидный слой.

Бьюти-советы

Для снятия макияжа с глаз и губ используйте гель Defence. Он удаляет водостойкие средства и сохраняет целостность гидролипидного барьера. Гель предотвращает покраснение, шелушение и раздражение кожи.

Aqua (water), octyldodecyl myristate, hydroxyethyl urea, diglycerin, glycerin, 1,5-pentanediol, triisostearin, glyceryl ethylhexanoate/stearate/adipate, betaine, nylon 6/12, PEG-32, caprylyl glycol, sodium hyaluronate, acrylates/C10-30 alkyl acrylate crosspolymer, xanthan gum, hydroxyethyl acrylate/ sodium acryloyldimethyl taurate copolymer, arginine, allantoin, hyaluronic acid, squalane, pentylene glycol, tocopheryl acetate, hydrolyzed hyaluronic acid, butylene glycol, ammonium acryloyldimethyltaurate/VP copolymer, 1,2-hexanediol, ceramide NG, serine, PPG-4-ceteth-20, algin, polysorbate 60, dipropylene glycol, acacia senegal gum, trisodium ethylenediamine disuccinate.

Наносите по мере необходимости легкими массирующими движениями на кожу лица после очищения.