Маска для обличчя Orlane Absolute Skin Recovery Masque, 75 мл

Втома, стрес? Ваша шкіра потребує спеціального догляду — Orlane Absolute Skin Recovery Masque! Ця маска дарує шкірі миттєве біологічне розслаблення та видиме полегшення.

Переваги продукту

Засіб надає шкірі гладкості, еластичності, пружності, сяяння, тонусу та відпочилого вигляду, омолоджує, розгладжує, освітлює й відновлює, наповнює енергією, усуває почервоніння та набряки, виводить токсини й вільні радикали, справляє ліфтинг-ефект, посилює стійкість макіяжу.

Як діє?

• Біоенергетичний комплекс Energesium® підвищує енергію шкіри, інтенсивно зволожує її, справляє зміцнювальну і підтягувальну дію.

• Екстракти гінкго білоба й женьшеню ефективно знімають ознаки втоми шкіри, мають доглядальні властивості.

Б’юті-поради

Використовуйте маску в поєднанні з відновлювальною сироваткою, детокс-емульсією та кремом проти втоми цієї ж лінійки.

Aqua (water), glycerin, octyldodecyl myristate, cocos nucifera (coconut) oil, glucose, sohexadecane, dimethicone, propylene glycol, cetyl alcohol, triethanolamine, nylon-6, zea mays (corn) oil, caprylic/capric triglyceride, ci 77891 (titanium dioxide), acrylates/c10-30 alkyl acrylate crosspolymer, phenoxyethanol, mica, parfum (fragrance), lecithin, methylparaben, tetrasodium edta, octyldodecanol, tocopheryl acetate, carbomer, pentylene glycol, ginkgo biloba leaf extract, triticum vulgare (wheat) protein, glycogen, ethylparaben, propylparaben, panax ginseng root extract, hydrogenated coco-glycerides, hydrolyzed rice protein, helianthus annuus (sunflower) seed extract, hydrolyzed soy protein, eicosapentaenoic acid, methylsilanol mannuronate, sodium hyaluronate, sorbic acid, potassium sorbate, linalool, benzyl salicylate, citronellol, hexyl cinnamal, limonene, alpha-isomethyl ionone, hydroxycitronellal, amyl cinnamal, citral.

Для щотижневого використання нанесіть товстий шар, залиште на десять хвилин, потім акуратно видаліть залишки лосьйоном. Для швидкого ефекту краси нанесіть тонкий шар перед використанням макіяжу як сяючу основу.