Тональна основа для обличчя GOSH X-Ceptional Wear Foundation, 14 Sand, 30 мл

База під макіяж відіграє важливу роль у забезпеченні його стійкості та створенні враження, яке він справить. Засіб є активною «сполучною ланкою» між шкірою та декоративною косметикою. Основа під макіяж X-Ceptional Wear Foundation від GOSH сприяє якіснішому нанесенню наступних шарів косметики, а також активно захищає від негативного впливу навколишнього середовища.

Тональна основа має приємну гелеподібну консистенцію, а спеціальний дозатор сприяє економічному використанню. Унікальний склад основи для макіяжу має спеціальні зволожувальні компоненти й вітамінний комплекс. Вони зберігають у шкірі оптимальний рівень вологи, запобігають появі сухості, лущення й подразнення. Засіб забезпечує шкірі додаткове живлення, роблячи її молодою, оновленою і сяючою на вигляд.

База рівномірно розподіляється по шкірі, заповнює всі нерівності, пори, вирівнює рельєф, приховує дрібні лущення і шорсткості. Шкіра стає матовою, оксамитовою, без жирного блиску. Тепер вона готова до нанесення консилера або коректора. Усі шари лягатимуть рівномірно, без смуг і плям. Макіяж буде більш довговічним і без ефекту «маски» на обличчі.

Aqua\Water\Eau, Cyclopentasiloxane, CI 77891 Titanium Dioxide, Nylon-12, Glycerin, Diethylhexyl Adipate, Cera Alba Beeswax Cire d'abeille, Polyglyceryl-4 Isostearate, Cetyl PEG/PPG-10/1 Dimethicone, Hexyl Laurate, Alcohol, Maris Aqua, Onopordum Acanthium Flower/Leaf/Stem Extract, Hydrolyzed Algin, Tocopheryl Acetate, Pentaerythrityl Tetra-di-t-butyl Hydroxyhydrocinnamate, Sucrose, Dimethicone, Zinc Stearate, Disodium Stearoyl Glutamate, Aluminum Hydroxide, Ethylhexylglycerin, Phenoxyethanol, Benzoic Acid, Dehydroacetic Acid, CI 77492 (Iron Oxides), CI 77491 (Iron Oxides), CI 77499 (Iron Oxides). Точний склад вказано на упаковці.

Нанесіть засіб по центру обличчя кінчиками пальців, пензликом або спонжем. Розтушуйте його в напрямку до контурів для отримання бездоганного тону.